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金沙集团高品质在线式气体检测仪 工业固定式气体探测器
产品型号: |
ERUN-PG5 |
品 牌: |
金沙集团 |
|
所 在 地: |
陕西西安 |
更新日期: |
2024-06-19 |
ERUN-PG5系列在线式单一气体探测器
ERUN-PG5系列固定单一气体探测器是可以应用于易燃易爆气体泄漏场所及其有毒有害存在的化工厂区,仪表采用催化燃烧传感器及其美国进口电化学传感器技术,产品具有信号稳定,精度高等优点,仪表外壳采用铸铝一次成型防爆隔爆设计,接线方式适用于各种危险场所。
- 报警记录查询功能
- 检测精度、量程可调
- 长寿命、高灵敏度、低漂移,工作稳定可靠
- 传感器故障自检、两级浓度报警,具有继电器输出功能
- 液晶或数码管气体浓度数字显示和工作状态显示
- 具有温度补偿、自动零点校正功能
- 4~20mA标准模拟输出和RS485数字输出,可上传DCS、PLC系统
- 红外遥控方式,不开盖即可对探测器进行调整,安全方便
- 采用隔爆式设计适用于危险条件1、2区
技术参数
◆检测原理:催化燃烧式/电化学式/热导式/半导体/PID光电离子/FID氢火焰等;
◆采样方式:自然扩散;
◆显示方式:4位LED数码管显示浓度值;
◆状态指示:3个LED灯指示电源、二级报警;
◆调试方式:按键操作;
◆环境温度:-20℃~70℃;
◆相对湿度:<95%;
◆防爆方式:隔爆型;
◆防爆等级:Ex dⅡC T6 Gb;
◆电 源:DC24V±15%;
◆输出信号:电 流:(4~20)mA
◆开 关量 :1个(一级报警点常开);
◆功 耗:≤3W;
◆使用电缆:≥1.5mm2×3;≥1.5mm2×4
◆探测器与主机间*大距离:≤1000m;
◆整机重量:≤1500g;
◆压力限制:86kPa~106kPa;
◆尺 寸:190×150×95 mm
可测气体一览表:
检测气体 |
气体代号 |
量程
(其他量程可定制) |
精度
(更高精度可定制) |
分辨率
(更高分辨率可定制) |
响应时间 |
可燃气(EX) |
EX |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤10秒 |
可燃气(EX) |
EX |
0-100%Vol |
<±3%(F.S) |
0.1%Vol |
≤10秒 |
甲烷(CH4) |
M3 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤5秒 |
甲烷(CH4) |
M3 |
0-100%Vol |
<±3%(F.S) |
0.1%Vol |
≤10秒 |
氧气(O2) |
O2 |
0-30%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%Vol |
≤15秒 |
氧气(O2) |
O2 |
0-100%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%Vol |
≤15秒 |
一氧化碳(CO) |
C1 |
0-500ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
一氧化碳(CO) |
C1 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
一氧化碳(CO) |
C1 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
一氧化碳(CO) |
C1 |
0-20000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
一氧化碳(CO) |
C1 |
0-100000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-5000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-10000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-50000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-20%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%Vol |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-50%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%Vol |
≤20秒 |
二氧化碳(CO2) |
C2 |
0-100%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%Vol |
≤20秒 |
甲醛(CH2O) |
Q1 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
甲醛(CH2O) |
Q1 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
甲醛(CH2O) |
Q1 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
臭氧(O3) |
O3 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
臭氧(O3) |
O3 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
臭氧(O3) |
O3 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
臭氧(O3) |
O3 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
臭氧(O3) |
O3 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
硫化氢(H2S) |
Y2 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
硫化氢(H2S) |
Y2 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
硫化氢(H2S) |
Y2 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
硫化氢(H2S) |
Y2 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
硫化氢(H2S) |
Y2 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化硫(SO2) |
S2 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
二氧化硫(SO2) |
S2 |
0-20ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
二氧化硫(SO2) |
S2 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
二氧化硫(SO2) |
S2 |
0-500ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化硫(SO2) |
S2 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化硫(SO2) |
S2 |
0-5000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
一氧化氮(NO) |
NO1 |
0-20ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
一氧化氮(NO) |
NO1 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
一氧化氮(NO) |
NO1 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化氮(NO2) |
NO2 |
0-20ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
二氧化氮(NO2) |
NO2 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化氮(NO2) |
NO2 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化氮(NO2) |
NO2 |
0-5000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氯气(CL2) |
L3 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
氯气(CL2) |
L3 |
0-20ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氯气(CL2) |
L3 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氨气(NH3) |
N3 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氨气(NH3) |
N3 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氨气(NH3) |
N3 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氨气(NH3) |
N3 |
0-5000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氨气(NH3) |
N3 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤20秒 |
氢气(H2) |
H1 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤20秒 |
氢气(H2) |
H1 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氢气(H2) |
H1 |
0-20000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
氢气(H2) |
H1 |
0-40000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤20秒 |
氢气(H2) |
H1 |
0-100%Vol |
<±3%(F.S) |
0.1%Vol |
≤20秒 |
氰化氢(HCN) |
HZ3 |
0-30ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氰化氢(HCN) |
HZ3 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氯化氢(HCL) |
HX2 |
0-20ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氯化氢(HCL) |
HX2 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
磷化氢(PH3) |
PX3 |
0-5 ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
磷化氢(PH3) |
PX3 |
0-20 ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
磷化氢(PH3) |
PX3 |
0-2000 ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二氧化氯(CLO2) |
CX3 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
二氧化氯(CLO2) |
CX3 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
二氧化氯(CLO2) |
CX3 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
环氧乙烷(ETO) |
E1 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
环氧乙烷(ETO) |
E1 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
环氧乙烷(ETO) |
E1 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
1%LEL |
≤20秒 |
光气(COCL2) |
TX3 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
硅烷(SiH4) |
SH4 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
硅烷(SiH4) |
SH4 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氟气(F2) |
F2 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
氟气(F2) |
F2 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氟气(F2) |
F2 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氟化氢(HF) |
FX2 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氟化氢(HF) |
FX2 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
溴化氢(HBr) |
FX1 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
乙硼烷(B2H6) |
B2 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
砷化氢(AsH3) |
AX3 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
砷化氢(AsH3) |
AX3 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
砷化氢(AsH3) |
AX3 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
锗烷(GeH4) |
G3 |
0-2ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
锗烷(GeH4) |
G3 |
0-20ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
肼, 联氨(N2H4) |
NH2 |
0-1ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
肼, 联氨(N2H4) |
NH2 |
0-300ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
四氢噻吩(THT) |
P2 |
0-50mg/m3 |
<±3%(F.S) |
0.01 mg/m3 |
≤20秒 |
溴气(Br2) |
R2 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.001ppm |
≤20秒 |
溴气(Br2) |
R2 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
乙炔(C2 H2) |
G2 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤20秒 |
乙炔(C2 H2) |
G2 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
乙炔(C2 H2) |
G2 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
乙烯(C2 H4) |
C5 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤20秒 |
乙烯(C2 H4) |
C5 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
乙烯(C2 H4) |
C5 |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
乙醛 |
Q4 |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
乙醇(C2 H6O) |
E5 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤20秒 |
乙醇(C2 H6O) |
E5 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤60秒 |
乙醇(C2 H6O) |
E5 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
甲醇(CH6O) |
E4 |
0-100%LEL |
<±3%(F.S) |
0.1%LEL |
≤20秒 |
甲醇(CH6O) |
E4 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
甲醇(CH6O) |
E4 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二硫化碳(CS2) |
CS2 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
丙烯腈 |
FX3 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
丙烯腈 |
FX3 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
丙烯腈 |
FX3 |
0-2000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
甲胺 |
TP1 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氮气(N2) |
N2 |
0-100%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%Vol |
≤20秒 |
碘气(I2) |
I2 |
0-50ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氮氧化物(NOX) |
N4 |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤20秒 |
氮氧化物(NOX) |
N4 |
0-5000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
苯(C6 H6) |
CX6 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
甲苯(C7 H8) |
CX7 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
二甲苯(C8 H10) |
CX8 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
苯乙烯(C8 H8) |
CT |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
苯乙烯(C8 H8) |
CT |
0-5000ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氯乙烯(C2 H3CL) |
LX4 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
三氯乙烯(C2 HCL3) |
LX4 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
四氯乙烯(C2 CL4) |
LX4 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
溴甲烷(CH3 Br) |
CH3 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
硫酰氟(SO2 F2) |
CH3 |
0-200ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤20秒 |
氦气(He) |
HE |
0-10%Vol |
<±3%(F.S) |
0.01%vol;0.001%vol |
≤20秒 |
氦气(He) |
HE |
0-50%vol |
<±3%(F.S) |
0.01%vol;0.001%vol |
≤20秒 |
氦气(He) |
HE |
0-100%vol |
<±3%(F.S) |
0.01%vol;0.001%vol |
≤20秒 |
VOC/ TVOC |
VOC |
0-10ppm |
<±3%(F.S) |
0.01ppm |
≤30秒 |
VOC/ TVOC |
VOC |
0-100ppm |
<±3%(F.S) |
0.1ppm |
≤30秒 |
VOC/ TVOC |
VOC |
0-1000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤30秒 |
VOC/ TVOC |
VOC |
0-10000ppm |
<±3%(F.S) |
1ppm |
≤30秒 |
应用场所:
ERUN-PG51系列固定式单一气体监测仪广泛使用于制药,化工化肥,天然气管网,污水处理,市政,冶铁炼钢,氯气厂,乙炔厂,制冷车间,化工车间,燃气站区,锅炉房,酒店厨房操作间等需要防毒防火防爆的场所。